原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立

• 作者: 姚汉民 李展 石建平 陈元培 陈旭南 陈献忠 高洪涛
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 原子光刻 真空蒸发 系统设计
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 微细加工光学技术
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3532字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.01.002

摘要

原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.