聚二甲基硅烷高压合成聚碳硅烷的组成、结构及性能表征

• 作者: 宋永才 程祥珍 肖加余 谢征芳
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 聚二甲基硅烷 高压合成 聚碳硅烷 组成结构 性能
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 39-43
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 2688字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2330.2004.05.009

摘要

以聚二甲基硅烷(PDMS)为原料,在高压釜内反应制备了聚碳硅烷(PCS)先驱体,并以软化点、元素分析、IR、GPC、NMR、TG-DTG-DTA、XRD等方法对其组成、结构及性能进行了表征,推测了PCS的大致结构模型.研究表明:PCS数均分子量约1590,实验式为SiC1.87H7.13O0.03,PCS分子包含Si-CH3、Si-CH2-Si、Si-H组成的SiC4、SiC3H等结构单元,由NMR知其C-H/Si-H值为8.84,SiC3H/SiC4为0.51.热分析表明,在N2气氛中1 200℃裂解后,陶瓷收率为78.9%.XRD分析表明,在N2中1 250℃裂解后转化为β-SiC,晶粒尺寸约3.75 nn.