聚二甲基硅烷高压合成聚碳硅烷的组成与结构分析

• 作者: 宋永才 王应德 程祥珍 肖加余 谢征芳
• 来源期刊: 国防科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚二甲基硅烷 高压 聚碳硅烷 组成 结构
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 航天工程·材料工程
• 页码范围: 20-23
• 页数: 4页
• 分类号: TQ343
• 字数: 1927字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2486.2005.02.005

摘要

以聚二甲基硅烷(PDMS)为原料,在高压釜内450℃下反应6h,制备了聚碳硅烷(PCS)先驱体.对其组成及结构进行了表征,推测了PCS的大致结构模型.研究表明,PCS分子包含Si-CH3、Si-CH2-Si、Si-H组成的SiC4、SiC3H等结构单元,实验式为SiC1.87H7.13O0.03.与常压高温裂解制备的软化点相近的PCS相比,二者的元素组成基本一致,高压合成的PCS具有较高的分子量和硅氢含量,但支化度略高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢征芳	国防科技大学航天与材料工程学院	40	404	12.0	18.0
2	宋永才	国防科技大学航天与材料工程学院	86	796	14.0	22.0
3	肖加余	国防科技大学航天与材料工程学院	170	1846	21.0	32.0
4	王应德	国防科技大学航天与材料工程学院	51	424	10.0	17.0
5	程祥珍	国防科技大学航天与材料工程学院	14	83	6.0	8.0