磁流变抛光液的研究

• 作者: 尤伟伟 彭小强 戴一帆
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变液 抛光 剪切屈服应力 去除率
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 先进加工制造技术
• 页码范围: 330-334
• 页数: 5页
• 分类号: TQ171.684
• 字数: 2624字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2004.03.015

摘要

介绍了磁流变抛光的原理和特点,并由此提出了适于抛光的磁流变液的评价标准,根据这一标准选取了磁流变液的各组分,配制出了标准的光学抛光用磁流变抛光液.通过自行研制的磁流变仪测得该磁流变液在磁场为600 mT,剪切率为110 rad/s时的剪切屈服应力达到70 kPa.用所配磁流变液对K9玻璃进行抛光实验,试验结果表明,磁流变抛光的材料最大去除率为0.4 pm/min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科技大学机电工程与自动化学院机电所	109	1657	23.0	33.0
2	彭小强	国防科技大学机电工程与自动化学院机电所	34	661	15.0	25.0
3	尤伟伟	国防科技大学机电工程与自动化学院机电所	4	128	4.0	4.0