氮化硅陶瓷滚子的油基磁流变抛光液研究

• 作者: 万贺 孙涛 张占立 熊明照 王恒迪 王锋
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 陶瓷滚子 磁流变液 磨料 抛光
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 页码范围: 60-63
• 页数: 4页
• 分类号: TG74|TQ174
• 字数: 2385字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2014.6.0013

摘要

针对氮化硅陶瓷滚子磁流变抛光的工艺技术，提出了所用油基磁流变抛光液的基本要求，确定了该磁流变抛光液的各组分及其最佳体积比，并研究了配制方法；利用陶瓷滚子抛光试验机研究了磁流变抛光液不同抛光磨料、不同粒径对氮化硅陶瓷滚子抛光质量和抛光效率的影响规律。结果表明：配制的磁流变抛光液具有良好的稳定性，能够满足氮化硅陶瓷滚子的抛光要求；抛光效果随着抛光磨料及其粒度大小的不同而不同，其中以氧化铝为磨料的磁流变抛光液对陶瓷滚子抛光的表面粗糙度值最小，以金刚石微粉 M1.5/3为磨料的磁流变抛光液对陶瓷滚子抛光的材料去除率最高。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王恒迪	河南科技大学机电工程学院	57	246	9.0	13.0
2	张占立	河南科技大学机电工程学院	35	153	5.0	11.0
6	熊明照	河南科技大学机电工程学院	4	6	1.0	2.0
7	王锋	河南科技大学机电工程学院	5	24	2.0	4.0
8	孙涛	河南科技大学机电工程学院	3	0	0.0	0.0
9	万贺	河南科技大学机电工程学院	1	0	0.0	0.0