氮化硅陶瓷层裂强度的研究

• 作者: 周昌国 唐志平 肖桂凤 胡晓军 蔡建
• 来源期刊: 高压物理学报
• 关键词: 氮化硅 层裂 粒子速度计 Hugoniot冲击绝热线
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 219-224
• 页数: 6页
• 分类号: O347.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5773.2005.03.005

摘要

用一级轻气炮冲击加载装置,对氮化硅陶瓷进行了冲击性能实验研究.发展了一种新的方法用于研究层裂特性,即通过在样品中埋设电磁粒子速度计来记录氮化硅陶瓷内部的层裂特性.该方法不同于常用的VISAR激光干涉法和锰铜计法,记录的是样品内部粒子速度的变化特征,位于层裂面后方的粒子速度计能清晰地表征材料的层裂特性.通过实验,得到了密度为3.12 g/cm3的氮化硅陶瓷的层裂强度为0.73 GPa,和Nahme等得到的强度较为接近,对称碰撞得到的裂片厚度与该次实验的飞片厚度相当.实验表明,电磁粒子速度计的方法可以用于研究非磁屏蔽材料的层裂特性.由于采用多个计进行记录,还得到了材料在弹性区内(1.8～3.6 GPa)的Hugoniot冲击绝热线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐志平	中国科学技术大学中国科学院材料力学行为和设计重点实验室	59	499	13.0	19.0
2	肖桂凤	解放军炮兵学院基础部实验中心	7	9	2.0	2.0
3	胡晓军	中国科学技术大学中国科学院材料力学行为和设计重点实验室	14	295	8.0	14.0
4	蔡建	中国科学技术大学中国科学院材料力学行为和设计重点实验室	7	79	5.0	7.0
5	周昌国	解放军炮兵学院基础部实验中心	1	3	1.0	1.0