中频交流反应溅射TiO2薄膜制备及光催化性能研究

• 作者: 侯亚奇 吴敏生 庄大明 张弓
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 中频交流磁控溅射 光催化降解 亚甲基蓝 甲基橙
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1073-1079
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 4106字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.05.017

摘要

利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜, 利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌, 并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比, 呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相, 晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果, 同时具有很好的光催化性能稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张弓	清华大学机械工程系	81	914	16.0	27.0
2	庄大明	清华大学机械工程系	104	1374	22.0	32.0
3	吴敏生	清华大学机械工程系	60	904	18.0	27.0
4	侯亚奇	清华大学机械工程系	16	287	10.0	16.0