基质晶体的真空紫外光谱研究

• 作者: 吴雪艳 尤洪鹏 曾小青 洪广言
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 基质晶体 真空紫外光谱 基质吸收带 激发光谱
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 页码范围: 233-238
• 页数: 6页
• 分类号: O782
• 字数: 3215字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2004.03.004

摘要

初步总结了基质晶体中吸收带位置的规律,即氧化物(CaO∶Eu,Y2O3∶Eu,≈200 nm) ＞多铝酸盐(BaMgAl10O17∶Eu,≈175 nm)≥硅酸盐(Ca2SiO4∶Tb,160～170 nm) ＞硼酸盐[(Y,Gd)BO3∶Eu,150～160 nm]≥钒酸盐(YVO4∶Eu,≈155 nm)≈正磷酸盐[(La,Gd)PO4∶Eu,≈155 nm]＞五磷酸盐(TbP5O14∶Eu,≈135 nm)＞二磷酸盐[Sr3(PO4)2∶Eu或K3Tb(PO4)2∶Eu,≈125 nm] ＞氟化物(LaF3∶Eu或LiYF4∶Eu,≈120 nm).基质吸收带的位置主要取决于基质的阴离子、阴离子基团,以及基质的组成、结构和键能,也受基质中阳离子的影响.这一初步规律将有助于人们寻找优质的新型紫外晶体和新型等离子体平板显示器件用的荧光粉.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	洪广言	中国科学院长春应用化学研究所稀土化学与物理重点实验室	75	1695	23.0	38.0
2	尤洪鹏	中国科学院长春应用化学研究所稀土化学与物理重点实验室	7	119	5.0	7.0
3	吴雪艳	中国科学院长春应用化学研究所稀土化学与物理重点实验室	6	74	4.0	6.0
4	曾小青	中国科学院长春应用化学研究所稀土化学与物理重点实验室	5	35	3.0	5.0