影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟

• 作者: 冯国英 曹冲 朱海波 杨李茗 王岚 陈建国 高耀辉
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 连续环行抛光 压强梯度 偏心距 转速比
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造技术
• 页码范围: 67-71
• 页数: 5页
• 分类号: TQ171
• 字数: 2675字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.04.019

摘要

利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响.模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀.在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著.实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布.这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯国英	四川大学电子信息学院	206	899	13.0	20.0
2	陈建国	四川大学电子信息学院	166	831	14.0	18.0
3	曹冲	四川大学电子信息学院	2	27	2.0	2.0
4	杨李茗		35	223	9.0	12.0
5	王岚		1	20	1.0	1.0
6	高耀辉	四川大学电子信息学院	3	28	3.0	3.0
7	朱海波	四川大学电子信息学院	8	74	5.0	8.0