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圆弧类回转体横具表面均匀涂层
圆弧类回转体横具表面均匀涂层
作者:
刘勋
王术刚
税毅
肖云峰
蒋驰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
表面涂层
均匀性
回转体
圆弧
运动轨迹
旋转工作台
喷涂枪
旋转方向
摘要:
探讨了半球壳表面涂层均匀性问题。设备为9M等离子喷涂枪,旋转工作台及夹持喷枪运动的机械手。喷枪运动轨迹和模具旋转方向如图1所示,喷涂参数:功率为36kW,送粉1.72kg·h^-1,喷距11cm,工件转速0.67rpm.s^-1。以φ186mm的半球壳模具球面为喷涂对象,进行了喷涂轨迹、喷枪运行速度和表面涂层均匀程度的相互关系实验,涂层厚度在弓形架上采用百分表(精度0.01mm)测试。
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文献信息
篇名
圆弧类回转体横具表面均匀涂层
来源期刊
中国工程物理研究院科技年报
学科
工学
关键词
表面涂层
均匀性
回转体
圆弧
运动轨迹
旋转工作台
喷涂枪
旋转方向
年,卷(期)
2004,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
163
页数
1页
分类号
TG174.44
字数
语种
DOI
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引文网络
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2004(0)
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均匀性
回转体
圆弧
运动轨迹
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期刊影响力
中国工程物理研究院科技年报
主办单位:
出版周期:
年刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
四川省绵阳市919信箱805分箱
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创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
2158
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