CVD工艺中气体流型的研究

• 作者: 汪飞琴 苏小平 鲁泥藕
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 体材料 稳定性 均匀性 流型
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 纳米功能材料及其应用
• 页码范围: 2792-2794,1799
• 页数: 4页
• 分类号: TQ11
• 字数: 2288字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2004.z1.782

摘要

化学气相沉积(CVD)法可制备高纯度、近似元件形状、大面积的块体材料,与制备薄膜的CVD过程相比,该过程存在长时间沉积稳定性、厚度均匀性及光学质量均匀性等问题.本文采用简化装置对CVD工艺过程进行物理模拟,探讨不同工艺参数下沉积室内部气体流型的变化,分析流型对沉积过程的影响.