确定薄膜厚度和光学常数的一种新方法

• 作者: 刘旭 叶辉 沈伟东 顾培夫
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 光学常数 色散公式 单纯形法
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 885-889
• 页数: 5页
• 分类号: O484.5
• 字数: 3562字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2004.07.006

摘要

借助于不同的色散公式,运用改进的单纯形法拟合分光光度计测得的透过率光谱曲线,来获得薄膜的光学常数和厚度.用科契公式分别对电子束蒸发的Tio2和反应磁控溅射的Si3N4,以及用德鲁特公式对电子束蒸发制备的ITO薄膜进行了测试,结果表明测得的光学常数和厚度,与已知的光学常数以及台阶仪测得的结果具有很好的一致性.这种方法不仅简便,而且不需要输入任何初始值,具有全局优化的能力,对厚度较薄的薄膜也可行.采用不同的色散公式可以获得各种不同薄膜的光学常数和厚度,这在光学薄膜、微电子和微光机电系统中具有实际的应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈伟东	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	39	296	8.0	16.0
2	叶辉	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	50	406	9.0	18.0
3	顾培夫	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	141	1761	23.0	34.0
4	刘旭	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	214	1718	22.0	32.0