UO2薄膜制备和光学常数及厚度测定

• 作者: 张桂凯 白彬 罗丽珠 蒋春丽 赖新春 陈秋云
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: UO2 薄膜 反射光谱 厚度 光学常数
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 1126-1130
• 分类号: TL99
• 语种: 中文

摘要

利用磁控溅射法制备了UO2薄膜,通过扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪及X射线衍射仪,对薄膜进行了分析和表征.利用反射光谱法测得了薄膜在400～1 200 nm波长范围内的反射率.通过对反射图谱进行数据拟合,得出UO2薄膜在450～950 nm波长范围内的折射率为2.1～2.65,消光系数约0.51,厚度为637 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋春丽		10	23	3.0	4.0
2	罗丽珠		11	24	3.0	4.0
3	陈秋云		7	26	3.0	5.0
4	赖新春		26	85	6.0	7.0
5	白彬		15	38	4.0	5.0
6	张桂凯		6	25	2.0	5.0