一步法制备聚苯乙烯/MoS2插层复合材料及结构与氧化行为研究

• 作者: 刘维民 王廷梅 田军
• 来源期刊: 高分子材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 聚苯乙烯 纳米复合材料 二硫化钼 插层聚合
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 结构与性能
• 页码范围: 131-134
• 页数: 4页
• 分类号: TB332
• 字数: 2888字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7555.2004.06.033

摘要

用阴离子聚合法原位一步合成了PS/MoS2插层复合材料,通过XRD、FT-IR及SEM对复合材料的结构进行了表征,结果表明,MoS2经聚苯乙烯插层后,层间距扩大了0.672 nm,形成的是插层型复合材料.通过XPS对一步法和两步法(剥层重堆法)制备的插层复合材料的氧化行为进行了研究,结果表明,一步法和两步法合成的PS/MoS2插层复合材料的氧化行为不同,前者主要是MoS2中的Mo4+氧化为Mo6+,后者主要是MoS2中的S2-氧化为S6+.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘维民	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	307	5597	38.0	57.0
2	田军	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	53	1167	23.0	31.0
3	王廷梅	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	22	157	7.0	11.0