有机玻璃的反应离子深刻蚀

• 作者: 丁桂甫 倪智萍 张丛春 杨春生 毛海平
• 来源期刊: 上海交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 反应离子刻蚀 有机玻璃 微结构 微机电系统
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 页码范围: 118-121
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3040字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-2467.2004.z1.029

摘要

以有机玻璃薄片为原料,进行反应离子深刻蚀,探讨了有机玻璃的刻蚀反应机理,着重研究了工作气压和功率密度对刻蚀速率、图形形貌的影响.结果表明,O2反应离子刻蚀有机玻璃是以化学刻蚀为主,同时离子碰撞作用也很重要.刻蚀速率开始随气压增大而加快,刻蚀速率主要受氧活性粒子浓度控制;气压超过一定值时,刻蚀速率反而减小,气压太高不利于各向异性刻蚀.刻蚀速率随功率增加而增大,适当增大功率有利于各向异性刻蚀.通过优化刻蚀工艺,可以获得侧壁较陡直光滑的有机玻璃微结构,扩展了加工微结构的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨春生	上海交通大学微纳米科学技术研究院	33	314	10.0	16.0
2	丁桂甫	上海交通大学微纳米科学技术研究院	60	503	12.0	19.0
3	倪智萍	上海交通大学微纳米科学技术研究院	5	54	3.0	5.0
4	毛海平	上海交通大学微纳米科学技术研究院	5	25	3.0	5.0
5	张丛春	上海交通大学微纳米科学技术研究院	6	9	2.0	2.0