化学溶液法在Al2O3单晶(1102)面沉积生长(200)面择优取向的CeO2涂层的研究

• 作者: 戴遐明 李庆丰 艾德生 薛耀辉 邓长生
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学溶液法 氧化铈 涂层 织构
• 年，卷（期）: 2004,（z2）
• 所属期刊栏目: 薄膜材料与表面技术
• 页码范围: 488-491
• 页数: 4页
• 分类号: TF8
• 字数: 2237字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2004.z2.110

摘要

利用化学溶液沉积法在R面切割的Al2O3单晶基底上进行了沉积制备有(200)择优取向CeO2涂层的研究.以无机铈盐为前驱体,采用浸渍提拉法制备溶液涂层,然后采用在空气中加热处理的方法,得到CeO2涂层,并利用X射线衍射、拉曼光谱等对CeO2涂层进行了表征.研究结果表明,影响CeO2涂层的织构形成的关键因素包括铈盐前驱体溶液的Ce3+浓度以及热处理制度.降低Ce3+浓度结合提高晶化热处理温度有利于涂层(200)择优取向的形成.基于织构形成的实验研究,提出了(200)织构的形成是一个热力学推动的过程,通过Ce2O3氧化成为CeO2,结合Al2O3基底的模板效应,形成(002)织构的CeO2:Ce2O3(002)+O2→CeO2(111)→CeO2(200)(优势取向).X射线衍射峰强-转化温度的阿伦尼乌斯分析得出CeO2(111)→CeO2(200)织构形成的活化能为37.6kJ/mol.