彩色Si3N4陶瓷的金刚石涂层

• 作者: M.Belmonte 蒋修治 蒋德伦
• 来源期刊: 超硬材料工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 氮化硅 等离子体CVD 显微组织 陶瓷基底
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 国外技术
• 页码范围: 48-52
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 4470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1433.2005.06.013

摘要

分析了Si3N4二次相变化对化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长的影响.氮化硅基底是将生坯试样放入Si3N4/BN粉末床内,通过无压烧结而成.经X射线衍射和导热试验证实,烧结气氛的局部变化会导致试样具有不同的灰度和化学物理性能,从而影响金刚石薄膜生长.对薄膜,包括厚度、平均晶粒度、表面粗糙度、织构和附着强度等进行了全面的表征.与玻璃相含量不多的陶瓷基底沉积的金刚石薄膜相比,含有玻璃相的Si3N4基底的薄膜厚度大、晶粒度小、薄膜与基底的附着强度高.