浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面去除分析

• 作者: 吴任和 申儒林 钟掘
• 来源期刊: 中南大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁头 研磨 抛光 去除率
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 机电与信息工程
• 页码范围: 1021-1025
• 页数: 5页
• 分类号: TG580.692
• 字数: 2853字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7207.2005.06.020

摘要

对浮动块研磨抛光机的运动学方程进行研究结果表明: 研磨时, 任意磁头上任意一点的运动轨迹是周期性的, 这种运动周期的重复性与工作圆环的角速度ω2和研磨盘的角速度ω1之比有关;当浮动块研磨抛光机在理想状态工作下时, ω1=ω2, 此时, 任意磁头上任意一点移动的路程相等, 表明磁头表面去除率相同, 但其轨迹的重复性太强. 在实际工作中, 磁头表面能取得均化的研磨条纹, 而整个研磨平面的平整精度却不一定很高;任意一点在每周期移动的路程长度与角速度ω和偏心距e有关, ω和e越大, 周期路程越长. 而周期路程较短, 表明轨迹的方向改变愈频繁, 有利于获得愈好的表面质量, 只是去除率降低. 因此, 粗研磨时, 宜取较高的转速以提高效率;而精研磨时, 宜取较低的转速以提高表面质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟掘	中南大学机电工程学院	145	2500	26.0	41.0
2	申儒林	中南大学机电工程学院	26	101	6.0	8.0
3	吴任和	中南大学机电工程学院	3	21	3.0	3.0