二次X射线曝光制作凹面光栅

• 作者: 李以贵 陈水良
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微细加工技术 二次X射线曝光 高斯分布 凹面光栅
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 29-31
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1043字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种通过微细加工技术即二次X射线曝光制作凹面光栅的方法.首先利用X射线截面光强遵循高斯分布的性质,无LIGA掩模版曝光显影后在PMMA上得到凹面,凹面深度可由曝光时间控制;再用带有光栅图案的LIGA掩模版第二次曝光显影在凹面上制作光栅.利用不同的掩模版,非常方便地制作了一维和二维凹面光栅,其粗糙度RMS值小于20 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈水良		2	5	1.0	2.0
2	李以贵		2	5	1.0	2.0