连续微浮雕面形控制的新方法

• 作者: 杜春雷 王长涛 董小春
• 来源期刊: 激光与光电子学进展
• 学科: 工学
• 关键词: 微光学元件 面形控制 壁垒效应 光刻模型
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 2005年中国学者在国外著名光学期刊上发表的部分科研成果简介
• 页码范围: 25,22
• 页数: 2页
• 分类号: TN2
• 字数: 1187字
• 语种: 中文

摘要

建立了抗蚀剂表面曝光量分布与抗蚀剂内部PAC浓度分布之间的关系,通过分析抗蚀剂内部PAC浓度分布特点,发现了抗蚀剂显影过程中的壁垒效应.在此基础上,提出一种新颖的微浮雕面形控制方法--等PAC浓度曲线面形控制技术.该方法克服了抗蚀剂显影模型精度以及显影不稳定性对浮雕面形的影响,使光刻胶上微结构浮雕深度超过100μm,面形均方根误差小于1μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜春雷	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	72	596	14.0	18.0
2	董小春	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	20	154	8.0	11.0
3	王长涛	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	14	65	5.0	7.0