六甲基二硅胺烷改性纳米二氧化硅

• 作者: 伍林 易德莲 曹淑超 欧阳兆辉 王艳 秦晓蓉 章为党
• 来源期刊: 武汉科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米粒子 二氧化硅 表面改性 六甲基二硅胺烷
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 化工·资源·环境
• 页码范围: 32-34
• 页数: 3页
• 分类号: TQ314.24+6
• 字数: 2339字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-3644.2005.01.010

摘要

采用干法改性工艺,以六甲基二硅胺烷(HMDS)为改性剂,氮气为保护气,对纳米二氧化硅表面进行改性,并分别讨论了反应温度、反应时间等因素对改性效果的影响.采用粉体在液体石蜡中的流动性、浸润性、透射电镜、红外光谱分析等手段表征二氧化硅的改性效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	伍林	武汉科技大学应用化学研究所	106	878	15.0	25.0
2	王艳	武汉科技大学应用化学研究所	40	303	8.0	16.0
3	秦晓蓉	武汉科技大学应用化学研究所	49	711	13.0	25.0
4	易德莲	武汉科技大学应用化学研究所	74	763	14.0	25.0
5	欧阳兆辉	武汉科技大学应用化学研究所	21	393	10.0	19.0
6	曹淑超	武汉科技大学应用化学研究所	28	508	13.0	22.0
7	章为党	武汉科技大学应用化学研究所	1	39	1.0	1.0