非晶态Tb-Fe硅基薄膜超磁致伸缩特性研究

• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 工学
• 关键词: 非晶态 超磁致伸缩 薄膜 溅射法
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 13-14
• 页数: 2页
• 分类号: TB43
• 字数: 1795字
• 语种: 中文

摘要

本文研究由溅射法制备的非晶态Tb-Fe硅基薄膜在室温下的磁致伸缩特性,从中找到一种在低磁场下仍具有较大磁致伸缩性的材料.研究结果表明:非晶态Tb-Fe薄膜,经450℃真空热处理,在其非晶相基础上可形成均匀细小的晶体颗粒,其磁致伸缩系数在49×104A·m-1的外磁场中可达380×10-6,并且λ随H的增大迅速提高,具有良好的软磁特性,符合预期的应用要求.