倾斜角沉积技术制备ZnS双折射雕塑薄膜

• 作者: 王素梅 范正修 贺洪波 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 雕塑薄膜 倾斜角沉积 双折射
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1699-1702
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|O484.4+1
• 字数: 2274字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2005.12.023

摘要

使用倾斜角沉积(GLAD)的电子束蒸发技术,制备了倾斜角度在60°～85°之间的ZnS双折射雕塑薄膜(STF).使用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)检测了ZnS薄膜的结晶状态和断面形貌,使用Lamda-900分光光度计测量了薄膜在不同的偏振光入射时的透过率.研究发现,室温下倾斜沉积ZnS薄膜断面为倾斜柱状结构,且薄膜的结晶程度不高.在相同的监控厚度时,随倾斜角度增大,沉积到基片上的薄膜厚度逐渐变小,但仍然大于余弦曲线显示的理论厚度.根据偏振光垂直入射时薄膜的透过光谱计算了不同角度沉积的薄膜的折射率和双折射.结果显示当倾斜角度为75°时,薄膜的双折射效应最显著,此时Δn=0.044.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0
4	王素梅	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	28	3.0	4.0