二元光学元件的制作技术与进展

• 作者: 张羽 杨坤涛 杨长城
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 工学
• 关键词: 二元光学 制作工艺 刻蚀 直写法
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 80-85
• 页数: 6页
• 分类号: TN256
• 字数: 4132字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2005.02.018

摘要

综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法.分析了这些方法的优缺点,并对其制作技术的发展进行了评述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨坤涛	华中科技大学光电系	95	984	18.0	25.0
2	张羽	华中科技大学光电系	6	87	4.0	6.0
3	杨长城		13	237	8.0	13.0