轨道分子屏极高真空实验室设计技术研究

• 作者: 崔志云 杨亚天 达道安
• 来源期刊: 宇航学报
• 学科: 工学
• 关键词: 极高真空 轨道分子屏 材料加工
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 121-125,167
• 页数: 6页
• 分类号: TB71+6
• 字数: 3465字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-1328.2005.02.001

摘要

给出了一种新型的近地轨道极高真空分子屏实验室设计.作者计算了可变翼分子屏周围大气分子的入射及散射、分子屏材料放气在屏内的分子数流密度.通过调整分子屏的翼角,分子屏内的压力可以达到10-12Pa.计算结果指出:在近地轨道选择合适的分子屏参数,可以在极高真空环境下加工超纯材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨亚天	福建师范大学物理系	18	40	3.0	5.0
2	达道安		33	265	8.0	15.0
3	崔志云		1	0	0.0	0.0