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摘要:
给出了一种新型的近地轨道极高真空分子屏实验室设计.作者计算了可变翼分子屏周围大气分子的入射及散射、分子屏材料放气在屏内的分子数流密度.通过调整分子屏的翼角,分子屏内的压力可以达到10-12Pa.计算结果指出:在近地轨道选择合适的分子屏参数,可以在极高真空环境下加工超纯材料.
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文献信息
篇名 轨道分子屏极高真空实验室设计技术研究
来源期刊 宇航学报 学科 工学
关键词 极高真空 轨道分子屏 材料加工
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目 论文
研究方向 页码范围 121-125,167
页数 6页 分类号 TB71+6
字数 3465字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-1328.2005.02.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨亚天 福建师范大学物理系 18 40 3.0 5.0
2 达道安 33 265 8.0 15.0
3 崔志云 1 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (0)
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参考文献  (1)
节点文献
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1997(1)
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2005(0)
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研究主题发展历程
节点文献
极高真空
轨道分子屏
材料加工
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
宇航学报
月刊
1000-1328
11-2053/V
16开
北京838信箱
2-167
1980
chi
出版文献量(篇)
5133
总下载数(次)
7
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