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摘要:
An improved interface characterization technique for a full-range profiling of oxide damage in ultra-thin gate oxide CMOS devices;An intelligent system for advanced dynamic security assessment;Ancient raw copper from primary smelting sites in Cyprus;Anthropogenic plutonium in soils of the Ural region
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内容分析
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文献信息
篇名 碳化硼
来源期刊 金属加工工艺与设备:英文版 学科 工学
关键词 碳化硼 表面特征 互补金属氧化半导体 超薄氧化薄膜 门二极管
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 38-40
页数 3页 分类号 TN31
字数 语种
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研究主题发展历程
节点文献
碳化硼
表面特征
互补金属氧化半导体
超薄氧化薄膜
门二极管
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
金属加工工艺与设备:英文版
双月刊
北京市百万庄大街22号
出版文献量(篇)
170
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