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电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响
电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响
作者:
周相
张建德
张自成
杨建华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
水介质
高电压击穿
μs级充电
电极表面光滑程度
摘要:
采用水介质同轴实验装置,改变电极表面的光滑程度,在μs级充电时进行水介质击穿实验,并对实验结果进行了分析和解释.结果表明:抛光电极表面可有效提高水介质耐高电压击穿能力;表面粗糙度为0.4~0.8 μm的抛光电极表面的击穿场强比表面粗糙度为1.6~3.2 μm的粗糙抛光电极表面,更符合Martin公式.电极表面光滑程度的改善,使阴极场致发射电流减弱进而击穿延迟时间变长,气泡也更难以附着在光滑的电极表面,从而可以提高水介质耐高电压击穿能力.
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文献信息
篇名
电极表面光滑程度对水介质高电压击穿的影响
来源期刊
强激光与粒子束
学科
工学
关键词
水介质
高电压击穿
μs级充电
电极表面光滑程度
年,卷(期)
2005,(3)
所属期刊栏目
粒子束及加速器技术
研究方向
页码范围
463-465
页数
3页
分类号
TL503
字数
1952字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张自成
国防科学技术大学光电科学与工程学院
15
60
5.0
6.0
2
张建德
国防科学技术大学光电科学与工程学院
67
377
10.0
14.0
3
杨建华
国防科学技术大学光电科学与工程学院
70
367
9.0
13.0
4
周相
国防科学技术大学光电科学与工程学院
7
43
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参考文献(0)
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2005(2)
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引证文献(0)
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引证文献(0)
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
水介质
高电压击穿
μs级充电
电极表面光滑程度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
强激光与粒子束
主办单位:
中国工程物理研究院
中国核学会
四川核学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-4322
CN:
51-1311/O4
开本:
大16开
出版地:
四川绵阳919-805信箱
邮发代号:
62-76
创刊时间:
1989
语种:
chi
出版文献量(篇)
9833
总下载数(次)
7
总被引数(次)
61664
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:
The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:
http://www.863.org.cn
项目类型:
重点项目
学科类型:
信息技术
期刊文献
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