纯铜表面镍硼合金涂层的制备

• 作者: 丁志敏 刘森林 王德庆 石子源 赵键
• 来源期刊: 大连铁道学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学沉积 Ni-B涂层 涂液 纯铜
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 页码范围: 62-65
• 页数: 4页
• 分类号: TG142.5
• 字数: 2646字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9590.2005.04.016

摘要

用化学沉积技术制备了Ni-B表面强化铜基材料,研究了表面涂层的显微组织、涂液的成分对镍硼沉积速率的影响及有关性能.结果表明,用化学沉积技术能在纯铜表面形成一层均匀、连续的镍硼硬化层,镍硼涂层的沉积速率由涂液中的NiCl2, KBH4, NaOH, 稳定剂和H2NCH2CH2NH2的浓度控制, 涂层是非晶态组织和少量过饱和镍固溶体的混合物,热处理后在涂层中析出Ni2B和Ni3B化合物,改善了铜的表面硬度和耐磨损性能,对铜的电阻率影响不大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁志敏	大连交通大学材料科学与工程学院	46	245	8.0	14.0
2	王德庆	大连交通大学材料科学与工程学院	41	238	8.0	12.0
3	石子源	大连交通大学材料科学与工程学院	4	37	3.0	4.0
4	刘森林	大连交通大学材料科学与工程学院	1	7	1.0	1.0
5	赵键	大连交通大学材料科学与工程学院	1	7	1.0	1.0