铝基SiOx膜层滑动磨损及其机理研究

• 作者: 张际亮 沃银花 甘正浩 郦剑
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铝基SiOx膜 APVCD 滑动磨损
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 422-424
• 页数: 3页
• 分类号: TB43|TN304.12
• 字数: 1625字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2005.03.028

摘要

本文采用低温常压CVD方法制备铝基SiOx陶瓷膜层.以黄铜为对磨材料,使用销-盘式磨损试验机对比研究纯铝表面与SiOx膜层的滑动磨损性能,通过SEM分析磨损的表面形貌并分析其磨损机理.结果表明纯铝表面发生粘着磨损,存在大量塑性变形和折叠,导致片状脱落,磨损率高;SiOx薄膜硬度较高,存在孔隙,表面发生塑性变形、崩塌和磨粒磨损;因薄膜孔隙具有储存润滑剂(水)的作用,磨损率明显低于对比纯铝样品;随沉积时间增加,SiOx膜层变厚,承载能力提高,磨损量减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郦剑	浙江大学材料科学与工程系	81	743	15.0	23.0
2	沃银花	浙江大学材料科学与工程系	21	155	8.0	11.0
3	张际亮	浙江大学材料科学与工程系	5	19	3.0	4.0