紫外光致抗蚀剂的研究现状

• 作者: 王文君 赵淑梅
• 来源期刊: 中国环境管理干部学院学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: 紫外光致抗蚀剂 光刻胶 193nm ArF 激光 激基体激光
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 页码范围: 79-81,85
• 页数: 4页
• 分类号: X63
• 字数: 4232字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-813X.2005.04.026

摘要

193nmArF激基体激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点.本文介绍了近年来几种主要的紫外光致抗蚀剂及其研究进展,对ArF激基体激光(193nm)光致抗蚀剂的各个组分进行了归纳综述.并指出,通过改进感光高分子的结构与组成,可以获得性质优良的抗蚀剂,给分析、研究工作以助益.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王文君		16	169	7.0	13.0