CCD制造的关键工艺

• 作者: 武利翻
• 来源期刊: 光电技术应用
• 学科: 工学
• 关键词: CCD 氧化 光刻 离子注入
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 光电器件与材料
• 页码范围: 38-42
• 页数: 5页
• 分类号: TN05+.4
• 字数: 4127字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1255.2005.01.011

摘要

CCD(电荷藕合器件)是一种在硅集成电路工艺线上制作的图像传感器.介绍了CCD的基本工作原理和制造的单项工艺,并详细介绍了其关键工艺:氧化、光刻、离子注入,还对各工艺所遇到的问题、相应的解决方法及发展状况进行了阐述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武利翻		4	42	4.0	4.0