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摘要:
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ICP-MS法测定高纯碳化硅粉表面的痕量杂质
ICP-MS
高纯碳化硅粉
表面杂质
ICP-AES法和ICP-MS法测定金属钴粉中杂质元素的比较
ICP-AES
ICP-MS
金属钴粉
杂质元素
比较
ICP-MS法测定磷酸二氢钾中杂质元素
电感耦合等离子体质谱法
磷酸二氢钾
杂质元素
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 膜去溶进样ICP-MS法测定电子级高纯盐酸中痕量金属杂质
来源期刊 质谱学报 学科 化学
关键词
年,卷(期) 2005,(z1) 所属期刊栏目 无机质谱
研究方向 页码范围 5-6,40
页数 3页 分类号 O657.63
字数 1453字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-2997.2005.z1.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孟蓉 17 143 6.0 11.0
2 李红华 3 21 2.0 3.0
3 黄志齐 7 78 5.0 7.0
传播情况
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引文网络
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2005(0)
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
质谱学报
双月刊
1004-2997
11-2979/TH
大16开
北京275信箱65分箱中国原子能科学研究院
82-349
1980
chi
出版文献量(篇)
1837
总下载数(次)
1
总被引数(次)
12922
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