制备45°双外延超导结的新工艺

• 作者: 孟树超 戴远东 李壮志 王福仁 聂瑞娟 马平
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: YBCO薄膜 双外延超导结 低能离子束
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 241-245
• 页数: 5页
• 分类号: O51
• 字数: 1799字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.2005.03.010

摘要

我们使用脉冲激光沉积方法对YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜在MgO基片上通过CeO2/YSZ双缓冲层的生长进行了系统的研究,发现MgO单晶基片的表面质量是决定能否得到理想外延薄膜质量的关键因素,通过使用低能离子束对MgO表面进行轰击,以增加其表面粗糙度和去除变质层,得到了具有100%面内45°旋转的YBCO外延膜,其临界电流密度77K时在106A/cm2量级.通过湿法刻蚀得到的双外延Josephson结表现出RSJ特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马平	北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室	16	87	4.0	9.0
2	戴远东	北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室	17	90	4.0	9.0
3	王福仁	北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室	15	42	4.0	6.0
4	孟树超	北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室	2	1	1.0	1.0
5	李壮志	北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室	2	0	0.0	0.0
6	聂瑞娟	北京大学物理学院人工微结构和介观物理国家重点实验室	13	47	4.0	6.0