磁头表面含氟硅烷自组装膜的制备和摩擦学性能

• 作者: 温诗铸 胡晓莉 雒建斌
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 磁头 1H,1H,2H,2H-全氟葵烷基三乙氧基硅烷自组装膜 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-3,27
• 页数: 4页
• 分类号: TH7
• 字数: 2406字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2005.06.001

摘要

利用分子自组装技术,在磁头表面制备1H,1H,2H,2H-全氟葵烷基三乙氧基硅烷(FTE)自组装膜.应用时间飞行二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、原子力显微镜(AFM)和接触角测量仪对FTE自组装膜进行表征.通过Olympus磁头磁盘界面可靠性测试系统对FTE自组装膜的摩擦学性能进行研究.实验结果表明磁头表面可制备膜厚1.2 nm、接触角值110.6°、表面粗糙度0.198 nm的FTE单层自组装膜.FTE单层自组装膜能够降低磁头起停过程的粘着力、增强磁头的摩擦性能,具有良好的耐磨性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	温诗铸	清华大学摩擦学国家重点实验室	156	3364	28.0	50.0
2	胡晓莉	清华大学摩擦学国家重点实验室	4	27	2.0	4.0
3	雒建斌	清华大学摩擦学国家重点实验室	96	1802	22.0	37.0