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美国发展紫外光刻
美国发展紫外光刻
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摘要：
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软紫外光压印光刻的模具制造研究
光刻胶
母版材料
软模具
紫外光电探测器的发展研究
紫外
探测器
半导体
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紫外光电被动告警
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期刊影响力
激光与光电子学进展
主办单位：
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期：
半月刊
ISSN：
1006-4125
CN：
31-1690/TN
开本：
大16开
出版地：
上海市嘉定区清河路390号（上海市800-211信箱）
邮发代号：
4-179
创刊时间：
1964
语种：
chi
出版文献量（篇）
9127
总下载数（次）
28
总被引数（次）
35767
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