激光等离子体极紫外光刻光源

• 作者: 孙长凯 林景全 窦银萍
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 工学
• 关键词: 极紫外光刻 激光等离子体 极紫外光源 转换效率
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 20-33
• 页数: 14页
• 分类号: TN305.7|O539
• 字数: 6773字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CO.20130601.0020

摘要

研究并讨论了下一代光刻的核心技术之一—激光等离子体极紫外光刻光源.简要介绍了欧美和日本等国极紫外光刻技术的发展概况,分析了新兴的下一代13.5 nm极紫外光刻光源的现状,特别讨论了国内外激光等离子体极紫外光刻光源的现状,指出目前其存在的主要问题是如何提高光源的转化效率和减少光源的碎屑.文中同时概述了6.x nm(6.5 ～6.7 nm)极紫外光刻光源的最新研究工作.最后,介绍了作者所在研究小组近年来在极紫外光源和极紫外光刻掩模缺陷检测方面开展的研究工作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林景全	长春理工大学理学院	47	295	8.0	16.0
2	窦银萍	长春理工大学理学院	7	26	2.0	5.0
3	孙长凯	长春理工大学理学院	6	41	3.0	6.0