激光等离子体13.5nm极紫外光刻光源进展

• 作者: 宗楠 张申金 彭钦军 王小军 王志敏 胡蔚敏 薄勇 许祖彦
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 物理学
• 关键词: 13.5 nm极紫外光刻技术 激光等离子体 极紫外光源 转换效率 光源碎屑 预脉冲激光
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 综述文章
• 页码范围: 28-42
• 页数: 15页
• 分类号: O432.1
• 字数: 10839字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CO.20201301.0028

摘要

半导体产业是高科技、信息化时代的支柱.光刻技术,作为半导体产业的核心技术之一,已成为世界各国科研人员的重点研究对象.本文综述了激光等离子体13.5 nm极紫外光刻的原理和国内外研究发展概况,重点介绍了其激光源、辐射靶材和多层膜反射镜等关键系统组成部分.同时,指出了在提高激光等离子体13.5 nm极紫外光源输出功率的研究进程中所存在的主要问题,包括提高转换效率和减少光源碎屑.特别分析了目前已实现百瓦级输出的日本Gigaphoton公司和荷兰的ASML公司的极紫外光源装置.最后对该项技术的发展前景进行了总结与展望.