一种基于元胞自动机的显影模型

• 作者: 刘明 李泠 陈宝钦 龙世兵
• 来源期刊: 微电子学与计算机
• 关键词: 电子抗蚀剂 显影 元胞自动机 ZEP520 计算机模拟
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 277-280
• 页数: 4页
• 分类号: TP15
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7180.2005.03.074

摘要

本文利用元胞自动机的方法建立电子抗蚀剂显影模型,阐述了用该模型确立电子抗蚀剂显影后轮廓的方法,在结合相应的能量沉积模型和显影速率模型后,给出了电子抗蚀剂最终显影轮廓的模拟结果,并用ZEP520电子抗蚀剂进行实验验证.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室	207	1983	20.0	38.0
2	陈宝钦	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室	50	361	11.0	16.0
3	龙世兵	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室	14	45	6.0	6.0
4	李泠	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术研究室	8	32	5.0	5.0