发射光谱法在等离子体刻蚀废气微量F元素检测中的应用研究

• 作者: 刘慧杰 黄光周
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 化学
• 关键词: 发射光谱法 等离子体刻蚀 氟
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 页码范围: 247-252
• 页数: 6页
• 分类号: O53|O657.31
• 字数: 4524字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-8138.2005.02.006

摘要

以CF4 Ar为等离子体刻蚀废气的模拟气体,利用发射光谱法分析F.含氟废气中F原子的发射光谱在600-800nm波段内的谱线为697.5nm和739.5nm.研究了电感耦合等离子体放电时射频功率对F元素检测的影响,表明提高射频功率可降低F元素检出限.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄光周	华南理工大学电信学院	26	189	9.0	13.0
2	刘慧杰	东莞理工学院电子系	14	35	4.0	5.0