基于电容模型的脉冲电解、电化学光整、蚀刻加工机理分析

• 作者: 云乃彰 王希 赵东标
• 来源期刊: 机械科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电解加工 电化学光整 电化学蚀刻 机理 双电层电容
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 页码范围: 1449-1451,1494
• 页数: 4页
• 分类号: TQ150
• 字数: 3755字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-8728.2005.12.017

摘要

用一个动态变化的电容模型来描述电化学加工过程,从一个全新的角度--电容,来解释电化学加工的机理.利用电极体系的等效阻抗的变化来解释脉冲电解中线性电解液非线性化的现象;通过界面双电层电容值的变化来解释脉冲电化学光整加工提高精度的根本原因;在脉冲电化学蚀刻中由于保护膜产生的类似电解电容效应,使该处的电容值显著变化,从而解决了在纯化学蚀刻中出现的侧向腐蚀问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵东标	南京航空航天大学机电学院	161	1433	20.0	28.0
2	云乃彰	南京航空航天大学机电学院	59	697	16.0	24.0
3	王希	南京航空航天大学机电学院	7	40	4.0	6.0