掩模分形提高光刻边缘锐度的研究

• 作者: 吕海宝 漆新民 罗宁宁 谌廷政 高益庆
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 应用光学 灰度掩模 掩模分形 边缘锐度 光刻
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 页码范围: 533-537
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2753字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2005.04.020

摘要

针对电寻址空间光调制器制作灰度掩模过程中,精缩透镜的低通滤波特性导致灰度掩模边缘锐度下降的问题,提出了掩模分形技术.对一幅高频灰阶掩模图形,按固定的或可变的低频采样.低频掩模的每个周期中,只包含原掩模图形多个周期中的一个抽样.通过实时掩模技术,将多个低频掩模按顺序曝光,从而恢复出原高频掩模图形.制作二元光栅时,分形掩模技术可使透镜造成的高频能量相对损失由35.23%降低至6.09%,同时,可将部分低频能量搬迁至中高频,较好地改善了灰阶掩模图形的边缘锐度.分形掩模还可以变多灰阶复杂掩模为简单的二元掩模,简化掩模的设计与实现,同时消除屏幕刷新率对掩模制作的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高益庆	南昌航空工业学院测控系	47	396	10.0	18.0
2	吕海宝	国防科学技术大学仪器系	10	124	5.0	10.0
3	漆新民	南昌航空工业学院测控系	19	122	6.0	11.0
4	罗宁宁	南昌航空工业学院测控系	11	44	5.0	6.0
5	谌廷政	国防科学技术大学仪器系	5	30	3.0	5.0