使用红外干涉仪测量锗材料折射率均匀性

• 作者: 朱日宏 王青 陈磊
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 测量与计量 红外材料 折射率 均匀性 干涉仪
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 测量技术
• 页码范围: 404-406
• 页数: 3页
• 分类号: TN213|TN247
• 字数: 1582字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2005.03.024

摘要

介绍了运用工作波长为10.6 μm的红外干涉仪测试红外光学材料(锗晶体)的折射率均匀性的方法.运用传统的干涉法检验光学材料的折射率均匀性时,由于锗晶体太软,表面不易加工,其表面面形难以满足测试要求.为了消除面形偏差对折射率均匀性偏差测试的影响,使用可见光移相式数字平面干涉仪精确测试被测样品的面形偏差,该干涉仪具有很高的测试精度,其测量不确定度可以达到λ/50(λ=0.633 μm).然后在红外干涉图数据处理中将样品的面形偏差扣除,得到样品折射率的偏差分布.对锗单晶材料进行了实际测试.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱日宏	南京理工大学电子工程与光电技术学院	129	1152	16.0	28.0
2	陈磊	南京理工大学电子工程与光电技术学院	133	991	16.0	23.0
3	王青	南京理工大学电子工程与光电技术学院	39	323	10.0	16.0