定偏心平面研磨均匀性研究

• 作者: 周兆忠 袁巨龙 郑家锦
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: CMP 轨迹方程 偏心保持架 平面度
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 14-16
• 页数: 3页
• 分类号: TH16
• 字数: 1370字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3133.2005.05.005

摘要

对修正环形抛光机CMP过程进行运动分析,给出研磨盘上一点相对于工件的速度矢量与轨迹方程.详细讨论研磨盘上不同位置的点的相对轨迹,通过对相对速度的讨论发现,当研磨盘与工件具有相同的角速度时,有利于工件平面度的提高.重点分析开螺旋槽的研磨盘对工件平面度的影响,提出用偏心保持架装置替代同心保持架装置,有利于工件平面度提高.实验结果与理论分析相符.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁巨龙		116	1467	19.0	35.0