晶体的定偏心平面CMP均匀性研究

• 作者: 刘顺 吴传超 安永泉 王志斌 解琨阳 赵同林
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 定偏心 CMP 轨迹方程 均匀性
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 页码范围: 728-733
• 页数: 6页
• 分类号: O786
• 字数: 2129字
• 语种: 中文

摘要

晶体的化学机械抛光(CMP)加工中存在工件的表面平整度差的问题.晶体平整度差,两块晶体在真空压合的过程中就会导致晶体被压裂甚至压碎,晶体表面出现任何微小的缺陷都会造成压合的失败,晶体的压合对于晶体表面的平整度要求非常高,因此本文针对这一现象提出一种定偏心平面CMP方式,通过此种被动驱动式平面CMP方法,合理选择CMP及偏心距的参数,使得被加工晶体(ZnSe)的表面粗糙度值达到0.846 nm,平面面形误差小于1.178 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志斌		148	757	13.0	18.0
5	刘顺		2	6	2.0	2.0
6	吴传超		2	14	2.0	2.0
7	安永泉		2	14	2.0	2.0
8	赵同林		1	4	1.0	1.0
9	解琨阳		1	4	1.0	1.0