一种适用于薄膜结构的静电键合方法

• 作者: 徐晨 沈光地 赵慧 赵林林 邹德恕 霍文晓
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: MEMS 静电键合 敏感薄膜 局部电场屏蔽
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 微纳加工与测试及封装技术
• 页码范围: 430-431
• 页数: 2页
• 分类号: TN305.94
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.154

摘要

针对带弹性敏感薄膜结构的微机械器件的硅/玻璃静电键合,介绍了一种有效的方法--局部电场屏蔽法,在键合过程中屏蔽弹性敏感薄膜所在位置的电场,使薄膜结构不受静电力的影响,从根本上解决了薄膜受静电吸引力而产生形变,与玻璃贴合甚至破裂的问题,大大提高了成品率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐晨	北京工业大学北京市光电子技术实验室	63	295	9.0	13.0
2	沈光地	北京工业大学北京市光电子技术实验室	192	1444	18.0	29.0
3	邹德恕	北京工业大学北京市光电子技术实验室	58	270	10.0	12.0
4	赵林林	北京工业大学北京市光电子技术实验室	9	31	3.0	4.0
5	霍文晓	北京工业大学北京市光电子技术实验室	6	21	2.0	4.0
6	赵慧	北京工业大学北京市光电子技术实验室	14	22	2.0	4.0