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摘要:
本文以Intel的90nm工艺和65nm工艺为例对下一代半导体工艺的特点进行了简要描述,并对新工艺给微处理器发展带来的新特点进行了介绍.
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网络处理器
功能结构
ASIC
VLIW
RISC
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 高性能微处理器与下一代半导体工艺
来源期刊 高性能计算技术 学科 工学
关键词 90nm工艺 65nm工艺 高性能微处理器
年,卷(期) 2006,(5) 所属期刊栏目 高性能计算前沿概览
研究方向 页码范围 1-4
页数 4页 分类号 TP314
字数 语种 中文
DOI
五维指标
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2006(0)
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研究主题发展历程
节点文献
90nm工艺
65nm工艺
高性能微处理器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
高性能计算技术
双月刊
32-1679/TP
江苏省无锡33信箱353号
chi
出版文献量(篇)
1235
总下载数(次)
12
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