用EDI去除高纯水中痕量氨(NH3和NH4+)的新方法

• 作者: 范伟 邓守权 闻瑞梅
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高纯水 电脱盐 弱离子化杂质氨 物种形态
• 年，卷（期）: 2006,（8）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 1367-1371
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.057
• 字数: 5015字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0372-2112.2006.08.002

摘要

本文研究了用电脱盐(Electrodeionization)EDI,去除高纯水中痕量氨(NH3和NH4+)的新方法.研究高纯水中弱离子化杂质氨的去除及其机理;研究了电流、进水电导率、进水流量和pH等对EDI去除水中氨(NH3和NH4+)的影响,进水氨浓度为208mg/L,经过一级EDI的处理,产品水中的总氨含量为0.072mg/L,对离子态铵也有很好去除效果,对进水中NH4Cl浓度为20mg/L～100mg/L,产品水中铵浓度＜0.026mg/L.结果说明这方法是目前处理高纯水中痕量氨最好结果,远远低于太空用水＜0.5mg/L的要求.还研究了水中氨在EDI中被去除时的物种形态.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闻瑞梅	同济大学电子信息工程学院	24	151	8.0	11.0
2	范伟	同济大学电子信息工程学院	15	112	6.0	10.0
3	邓守权	同济大学电子信息工程学院	17	112	7.0	10.0