深刻蚀高密度熔融石英光栅

• 作者: 周常河 张妍妍 王顺权 茹华一
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光栅 深刻蚀 感应耦合等离子体 熔融石英
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 175-178
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7|O436.1
• 字数: 2767字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.02.008

摘要

深刻蚀高密度熔融石英光栅是一种新型高效的衍射光学元件,具有衍射效率高、成本低、抗损伤,能在高强度激光条件下工作等优点.给出了利用感应耦合等离子体(ICP)技术制作熔融石英深刻蚀光栅的详细过程,并在一定的优化条件下制作了一系列不同周期、开口比和深度的高质量深刻蚀石英光栅.实验得到的最大刻蚀深度为4 μm,并且在600 l/mm的高密度条件下得到了刻蚀深度为1.9μm的高深宽比石英光栅.光栅侧壁陡直,表面平整,没有聚合物沉积.所制作的熔融石英光栅元件在高强激光环境、光谱仪、高效滤波器和波分复用系统等领域中有非常广泛的用途.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周常河	中国科学院上海光学精密机械研究所	60	460	13.0	17.0
2	王顺权	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	25	2.0	3.0
6	茹华一	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	25	2.0	3.0
7	张妍妍	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	27	2.0	3.0