激光清洗硅片表面Al2O3颗粒的试验和理论分析

• 作者: 司马媛 吴东江 康仁科 王续跃 胡礼中 许媛
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 激光清洗 硅片 清洗效率 Al2O3颗粒
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 764-770
• 页数: 7页
• 分类号: TN249
• 字数: 4437字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2006.05.008

摘要

以KrF准分子激光器为激光源,对目前工业上常用的硅片研磨抛光液的主要成分Al2O3颗粒进行激光清洗的试验和理论分析.建立一维热传导模型,利用有限元分析软件MSC.MarC模拟硅片表面的温度随激光作用时间和能量密度的分布.通过理论计算,量化了颗粒所受到的清洗力以及其与硅片表面之间的粘附力,理论预测出1 μm Al2O3颗粒的激光清洗阈值为60 mJ/cm2.在理论分析的指导下,利用248 nm、30 ns的KrF准分子激光进行单因素试验,研究激光能量密度、脉冲个数、激光束入射角度对激光干法清洗效率的影响,并且实验验证了清洗模型以及场增强效应对激光清洗结果的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	康仁科	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	165	2562	24.0	44.0
2	吴东江	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	63	533	14.0	20.0
6	王续跃	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	87	426	10.0	15.0
7	许媛	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	2	39	1.0	2.0
8	司马媛	大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室	2	46	2.0	2.0