镁合金等离子体氧化工艺及特性研究

• 作者: 华铭 施修龄 来永春
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 等离子体氧化 工艺与特性
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 页码范围: 54-56
• 页数: 3页
• 分类号: TQ245.12

摘要

采用等离子体氧化方法处理镁舍佥材料时，为了获得好的镁合金氧化膜，先恒定电流，随着氧化膜厚度的生长，电压自动上升，当升至450V时，再恒定电压，降低电流，这样获得的氧化膜致密、光滑、空隙少，具有良好的耐磨和耐蚀等特性。本文对氧化膜还进行了硬度和相结构分析，指出当氧化电压低于450V时，氧化镁主要结构为MgO2；当氧化电压高于550V时，氧化镁主要结构为高温相MgO。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	华铭	北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室	9	117	6.0	9.0
2	施修龄	北京师范大学低能核物理研究所	6	93	4.0	6.0
3	来永春		3	55	2.0	3.0